国家科学中心出访立陶宛EKSPLA公司

  2017年11月26日至12月2日，应立陶宛EKSPLA公司邀请，国家科学中心程远、赖宇明一行两人访问了立陶宛EKSPLA公司。

  国家科学中心承担了国家“十二五”国家重大科技基础设施建设项目高能同步辐射光源验证装置的研究工作，EKSPLA公司为其中的动态光谱-电化学耦合原位实验关键技术系统的预研工作提供非线性光谱设备，该设备对于研究表面界面过程具有重要作用。

  出访期间，代表团成员在EKSPLA公司区域销售经理DaliusPranskevicius带领下走访了其各个部门，并对我方订购的非线性光谱设备制造进度及完成情况进行了检查，对方表示能够确保设备按照合同规定时间按时交付。

  最后，代表团程远与EKSPLA公司技术负责人就所订购设备在原理、设计、技术方面可能存在的问题进行了进一步的沟通交流，对于光路设计、样品台及样品池的布置及空间等问题进行了讨论。通过交流，双方很好的解决了之前存在的疑问，基本确定了光路图、样品连接等具体的技术细节。

  此次出访活动明确了我方订购的非线性光谱设备的制造进度，确保相关设备能够按时保质完成并交付，为整个项目后续的设备安装、调试、试运行及验收工作奠定良好的基础。

代表团成员与EKSPLA公司负责人合影

非线性光谱设备

双方就光谱设备原理和设计等细节进行讨论

（责编：董强）